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磁控濺射鍍膜

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項目介紹

磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁）之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，使氬氣發(fā)生電離。

氬離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質的靶和控制不同的濺射時間，便可以獲得不同材質和不同厚度的薄膜。

磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結合力強、鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點。

樣品要求

下單前確認鍍膜條件包括：真空度，保護氣體及其流量，工作壓力，濺射功率，濺射時間，基板偏置電壓等。如果不知道濺射條件，也可以告知濺射鍍膜厚度條件實驗室按照經(jīng)驗確定。

項目案例

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1. 復測保證

如果在訂單完成之后7天內對結果存疑,可申請同條件免費復測，更換條件或者參數(shù)不能參與免費復測保障服務，全程由專業(yè)團隊操作，確保結果有效性；

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