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X射線光電子能譜（XPS）

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X射線光電子能譜（XPS）

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馬騁

XRD、UPS、XPS、DLS、GIXRD、2D-WAXD、AFM-IR測試工程師

具有多年XPS、DLS等操作經(jīng)驗(yàn)。精通XPS技術(shù)在材料表征上的應(yīng)用，尤其在催化、電池材料的峰形處理方面具有豐富經(jīng)驗(yàn)和實(shí)操技能。同時，在DLS樣品制備和濃度效應(yīng)分析上有獨(dú)到的理解和實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)。

項(xiàng)目介紹

X射線光電子能譜法是一種表面分析方法，提供的是樣品表面的元素含量與形態(tài)。

如果輔以刻蝕手段，再利用XPS作為分析方法，則可以實(shí)現(xiàn)對樣品的深度分析。

一、XPS的特點(diǎn)

1. 可以分析除 H 和 He 以外的所有元素；

2. 提供有關(guān)化學(xué)鍵方面的信息，即直接測量價層電子及內(nèi)層電子軌道能級；

3. 是一種高靈敏超微量的表面分析技術(shù)，分析所需試樣量極少，樣品分析深度為0.5-10nm 。

二、XPS的應(yīng)用

1. 元素定性分析

2. 元素半定量分折

3. 元素的價態(tài)分析

樣品要求

1. a. 塊體/片狀/薄膜：長寬高（厚）不超出1 × 1 × 0.3 cm（磁性樣品長寬≤5mm，厚度≤2mm）（若需指定測試面需做好標(biāo)記），金屬極片請真空封裝后送樣；b. 粉末樣品不少于10mg，請盡量使用樣品管寄送；c. 液體樣品需滴在云母片或硅片上烘干后送樣，標(biāo)注好測試面，若直接寄送液體，實(shí)驗(yàn)室需收取制樣費(fèi)。

2. 含水或含高揮發(fā)性成分等會影響真空系統(tǒng)，送樣前請務(wù)必進(jìn)行烘烤干燥處理。

3. 樣品含有硫、鹵族元素等揮發(fā)性元素或放射性元素，請務(wù)必提前告知，避免污染測試系統(tǒng)。

4. 原子百分含量小于5%的元素可能測不出明顯信號，H、He元素?zé)o法測試。

5. 測試設(shè)備默認(rèn)為鋁（Al）靶，請知悉。

項(xiàng)目案例

XPS全譜

XPS 精細(xì)譜

XPS深度剖析

XPSmapping成像

常見問題
1、Mg靶與Al靶的區(qū)別？什么時候需要用Mg靶測試？

能量不同，分辨率不同，Mg靶分辨率高，Al靶能量高。通常使用Al靶測試即可，若遇到重疊譜峰的情況，如在利用Al 靶測試Fe、Co和Ni同時存在的樣品時受俄歇峰影響嚴(yán)重，通常換用Mg靶來移動俄歇峰，以消除干擾。

2、XPS可以測哪些元素？

可以測試除H和He以外的所有元素。

3、XPS表征的是樣品的表面還是體相？

表面10nm以內(nèi)。

4、XPS中，測價帶譜的作用是什么？

計算價帶位置，及能帶中電子態(tài)密度隨能量的分布。

5、XPS測試分析價態(tài)的位置和參考文獻(xiàn)不一致怎么辦？

1.先確定分析數(shù)據(jù)前數(shù)據(jù)是否校準(zhǔn)；

2.校準(zhǔn)的方式和數(shù)據(jù)是否和文獻(xiàn)一致；

3.每個設(shè)備都有分辨率，XPS用鋁靶的能量分辨率是在小于等于0.5eV范圍，如果參考值在正負(fù)0.5eV之間變動，可認(rèn)為沒有什么區(qū)別；

4.確定自己的化學(xué)價態(tài)是否在這個范圍內(nèi)，一個化學(xué)價態(tài)是對應(yīng)一個結(jié)合能范圍。

X射線光電子能譜（XPS）

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2. 具體細(xì)則

每單限1次復(fù)測機(jī)會，單次需小于5個樣品; 此外免費(fèi)復(fù)測樣品必須為同一樣，私人定制、云視頻測試不可享受此服務(wù)；

3. 注意事項(xiàng)

如果由于您自身樣品的情況(樣品有問題/選錯測試條件等)將不可享受此服務(wù)；

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