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原子層沉積技術(shù)(ALD)

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原子層沉積技術(shù)(ALD)

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項(xiàng)目介紹

原子層沉積 ( ALD)是一種基于化學(xué)氣相沉積 (CVD) 的高精度薄膜沉積技術(shù)，是將物質(zhì)材料以單原子膜的形式基于化學(xué)氣相一層一層的沉積在襯底表面的技術(shù)。將兩種或更多種前體化學(xué)品分別包含被沉積材料的不同元素，一次一種地分別引入到襯底表面。每個(gè)前體使表面飽和，形成單層材料。

樣品要求

樣品尺寸：沉積面積為8英寸以下

項(xiàng)目案例

常見問題

1、什么是原子層沉積（ALD）？

原子層沉積 (Atomic Layer Deposition, ALD)是一種基于化學(xué)氣相沉積 (CVD) 的高精度薄膜沉積技術(shù)，是將物質(zhì)材料以單原子膜的形式基于化學(xué)氣相一層一層的沉積在襯底表面的技術(shù)。將兩種或更多種前體化學(xué)品分別包含被沉積材料的不同元素，一次一種地分別引入到襯底表面。每個(gè)前體使表面飽和，形成單層材料。

項(xiàng)目推薦

原子層沉積技術(shù)(ALD)

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7天無理由免費(fèi)復(fù)測

1. 復(fù)測保證

如果在訂單完成之后7天內(nèi)對結(jié)果存疑,可申請同條件免費(fèi)復(fù)測，更換條件或者參數(shù)不能參與免費(fèi)復(fù)測保障服務(wù)，全程由專業(yè)團(tuán)隊(duì)操作，確保結(jié)果有效性；

2. 具體細(xì)則

每單限1次復(fù)測機(jī)會，單次需小于5個(gè)樣品; 此外免費(fèi)復(fù)測樣品必須為同一樣，私人定制、云視頻測試不可享受此服務(wù)；

3. 注意事項(xiàng)

如果由于您自身樣品的情況(樣品有問題/選錯測試條件等)將不可享受此服務(wù)；

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