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動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀（D-SIMS）

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動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀（D-SIMS）

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項目介紹

動態(tài)二次離子質(zhì)譜(D-SIMS)用氣體等離子源轟擊樣品,使樣品表面原子、分子或離子等濺射出來，用質(zhì)量分析器接收濺射出的二次離子，通過分析其質(zhì)荷比(m/z)得到的二次離子質(zhì)譜。

相比TOF-SIMS，D-SIMS有更強(qiáng)的深度分析能力，分析深度能達(dá)到5~10μm，且剖析過程中可以連續(xù)測試元素信息；深度分辨率和檢出限比TOF高很多，分析面積100、200、300μm見方居多，面積越大濺射速率越慢。

樣品要求

樣品要求：以固態(tài)薄層、表面平整材料為主，比如襯底或者薄膜；粉末、已封裝或者有結(jié)構(gòu)之類的特殊樣品需要進(jìn)行適當(dāng)制備；

1. 尺寸要求：5~10mm之間，厚度不超過1mm，真空保存，標(biāo)記清楚測試面；

2. 分析面積100、200、300μm見方居多，面積越大濺射速率越慢；

3. 分析深度一般在5μm之內(nèi)，但不超過10μm；

4. 部分樣品可以定量分析（比如：常見的硅中各種摻雜B、P、As等，各類化合物半導(dǎo)體及其多層結(jié)構(gòu)等），取決于是否有合適的標(biāo)準(zhǔn)樣品。

項目案例

D-SIMS原位測試

網(wǎng)格硅的SIMS圖譜和Mapping成像

動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀（D-SIMS）

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1. 復(fù)測保證

如果在訂單完成之后7天內(nèi)對結(jié)果存疑,可申請同條件免費復(fù)測，更換條件或者參數(shù)不能參與免費復(fù)測保障服務(wù)，全程由專業(yè)團(tuán)隊操作，確保結(jié)果有效性；

2. 具體細(xì)則

每單限1次復(fù)測機(jī)會，單次需小于5個樣品; 此外免費復(fù)測樣品必須為同一樣，私人定制、云視頻測試不可享受此服務(wù)；

3. 注意事項

如果由于您自身樣品的情況(樣品有問題/選錯測試條件等)將不可享受此服務(wù)；

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